Title of article :
High growth rate of vertically aligned carbon nanotubes using a plasma shield in microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition
Author/Authors :
Hiroshi Kinoshita، نويسنده , , Ippei Kume، نويسنده , , Hirokazu Sakai، نويسنده , , Masahito Tagawa، نويسنده , , Nobuo Ohmae، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2004
Pages :
4
From page :
2753
To page :
2756
Keywords :
B. Chemical vapor deposition , A. Carbon nanotubes , C. Electron microscopy
Journal title :
Carbon
Serial Year :
2004
Journal title :
Carbon
Record number :
1120861
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=1120861