Title of article
Physical characterization of mixed HfAlOx layers by complementary analysis techniques
Author/Authors
Bender، نويسنده , , H and Conard، نويسنده , , Th and Richard، نويسنده , , O and Brijs، نويسنده , , B and Pétry، نويسنده , , J and Vandervorst، نويسنده , , W and Defranoux، نويسنده , , C and Boher، نويسنده , , P and Rochat، نويسنده , , N and Wyon، نويسنده , , C and Mack، نويسنده , , P and Wolstenholme، نويسنده , , J and Vitchev، نويسنده , , R and Houssiau، نويسنده , , L and Pireaux، نويسنده , , J-J and Bergmaier، نويسنده , , A and Dollinger، نويسنده , , G، نويسنده ,
Issue Information
روزنامه با شماره پیاپی سال 2004
Pages
4
From page
60
To page
63
Abstract
The combined information of complementary physical analysis techniques is applied to obtain a full characterisation of the important material parameters of new high-k layers, i.e. the layer thickness, density, composition and interlayer thickness and nature, and to optimise the measurement methodologies of the different techniques.
Keywords
HIGH-K DIELECTRICS , Physical characterization , HfAlOx
Journal title
MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING: B
Serial Year
2004
Journal title
MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING: B
Record number
2141341
Link To Document