Author/Authors :
D.A. Koleva، نويسنده , , J. Hu، نويسنده , , A.L.A. Fraaij، نويسنده , , P. Stroeven، نويسنده , , N. Boshkov، نويسنده , , K. van Breugel، نويسنده ,
Keywords :
CATHODIC PROTECTION , Chloride ingress , Electrochemical measurement , morphology , SEM image analysis