Title of article :
A new fabrication method for vanadium dioxide thin films deposited by ion beam sputtering
Author/Authors :
Xingjian Yi، نويسنده , , Changhong Chen، نويسنده , , Luqin Liu، نويسنده , , Yingrui Wang، نويسنده , , Bifeng Xiong، نويسنده , , Hongchen Wang، نويسنده , , Sihai Chen، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2003
Pages :
5
From page :
137
To page :
141
Keywords :
Vanadium dioxide , Infrared thin film materials , VOx thin films
Journal title :
Infrared Physics & Technology
Serial Year :
2003
Journal title :
Infrared Physics & Technology
Record number :
327818
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=327818
