Title of article :
Investigation on properties of TiO2 thin films deposited at different oxygen pressures
Author/Authors :
Yanming Shen، نويسنده , , Sheng-Hua Yu، نويسنده , , Jianke Yao، نويسنده , , Shuying Shao، نويسنده , , Zhengxiu Fan، نويسنده , , Hongbo He and Jianda Shao، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2008
Pages :
5
From page :
550
To page :
554
Keywords :
TiO2 thin films , Residual stress , Electron beam evaporation
Journal title :
OPTICS & LASER TECHNOLOGY
Serial Year :
2008
Journal title :
OPTICS & LASER TECHNOLOGY
Record number :
335650
Link To Document :
https://search.isc.ac/dl/search/defaultta.aspx?DTC=10&DC=335650
