Author/Authors :
Nicolas F. de. Rooij and U. Staufer ، نويسنده , , C. Beuret، نويسنده , , S. Gautsch، نويسنده , , W. Noell، نويسنده , , G. Schuurmann، نويسنده , , C. Stebler ، نويسنده , , N.F. de Rooij
، نويسنده ,
Keywords :
scanning probe microscopy , dust particles , MEMS , electron-beam lithography , space applications