Processing dependent behavior of soft imprint lithography on the 1-10-nm scale

Feng Hua، نويسنده , , Gaur، نويسنده , , A.، نويسنده , , Yugang Sun، نويسنده , , Word، نويسنده , , M.، نويسنده , , Niu Jin، نويسنده , , Adesida، نويسنده , , I.، نويسنده , , Shim، نويسنده , , M.، نويسنده , , Shim، نويسنده , , A.، نويسنده , , Rogers، نويسنده , , J.A، نويسنده ,

روزنامه با شماره پیاپی سال 2006

8

301

308

Imprint lithography , next generation lithography , poly(dimethylsiloxane) (PDMS) , polymer physics , replica molding.

IEEE Transactions on Nanotechnology

2006

IEEE Transactions on Nanotechnology

398843