Title of article :
Co-Induced Low-Temperature Silicidation of Ni Germanosilicide Using NiPt Alloy and the Effect of Ge Ratio on Thermal Stability
Author/Authors :
Jang-Gn Yun، نويسنده , , Soon-Young Oh، نويسنده , , Bin-Feng Huang، نويسنده , , Yong-Jin Kim، نويسنده , , Hee-Hwan Ji، نويسنده , , Yong-Goo Kim، نويسنده , , Sung-Hyung Park، نويسنده , , Heui-Seung Lee، نويسنده , , Dae-Byung Kim، نويسنده , , Ui-Sik Kim، نويسنده , , Han-Seob Cha، نويسنده , , Sang-Bum Hu، نويسنده , , Jeong-Gun Lee، نويسنده , , Hi-Deok Lee، نويسنده ,
Issue Information :
روزنامه با شماره پیاپی سال 2007
Pages :
7
From page :
485
To page :
491
Keywords :
thermal stability. , Co overlayer , Ni germanosilicide , NiPt alloy , NiPt/Co/TiN tri-layer , salicide , sIgE , Ge fraction ( ) and CILOS_NPtechnology
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Serial Year :
2007
Journal title :
IEEE Transactions on Nanotechnology
Record number :
398969
Link To Document :
بازگشت