Author/Authors :
Dubuc، نويسنده , , C.، نويسنده , , Beauvais، نويسنده , , J.، نويسنده , , Drouin، نويسنده , , D.، نويسنده ,
Keywords :
Chemical mechanical polishing (CMP) , single-electrontransistor (SET). , nanodevice characterization , electronbeam lithography (EBL)
