مرکز منطقه ای اطلاع رساني علوم و فناوري - Raman spectroscopy as an on-line measurement technique in a laser-CVD reactor during production of Si3N4

Title of article :

Raman spectroscopy as an on-line measurement technique in a laser-CVD reactor during production of Si3N4

Author/Authors :

I.L. Tuinman، نويسنده , , J. Veenstra، نويسنده , , J.C.M. Marijnissen، نويسنده , , B. Scarlett، نويسنده , , J. Schoonman، نويسنده ,

Issue Information :

ماهنامه با شماره پیاپی سال 1996

Pages :

From page :

295

To page :

296

Keywords :

Laser CVD , Raman spectroscopy , Silicon nitride

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Serial Year :

1996

Journal title :

Journal of Aerosol Science

Record number :

733904

Link To Document :