Title of article
Application of N2/Ar inductively coupled plasma to the photoresist ashing for low-k dielectrics
Author/Authors
HYOUN WOO KIM، نويسنده , , JU HYUN MYUNG، نويسنده , , NAM HO KIM، نويسنده , , CHUNG-GON YOO، نويسنده , , KEE WON SUH، نويسنده , , SUNG KYEONG KIM، نويسنده , , Dae-Kyu Choi، نويسنده , , CHIN-WOOK CHUNG، نويسنده , , CHANG-JIN KANG، نويسنده , , WAN JAE PARK، نويسنده , , SE-GEUN PARK، نويسنده , , JAE-GAB LEE، نويسنده ,
Issue Information
دوهفته نامه با شماره پیاپی سال 2005
Pages
2
From page
3543
To page
3544
Journal title
Journal of Materials Science
Serial Year
2005
Journal title
Journal of Materials Science
Record number
829997
Link To Document