Title of article
Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas
Author/Authors
SE-GEUN PARK، نويسنده , , CHIN-WOO KIM، نويسنده , , Ho-Young Song، نويسنده , , HYOUN WOO KIM، نويسنده , , JU HYUN MYUNG، نويسنده , , SUKHO JOO، نويسنده , , SOON OH PARK، نويسنده , , KYU-MANN LEE، نويسنده ,
Issue Information
دوهفته نامه با شماره پیاپی سال 2005
Pages
2
From page
5015
To page
5016
Journal title
Journal of Materials Science
Serial Year
2005
Journal title
Journal of Materials Science
Record number
830241
Link To Document