DocumentCode :
1221
Title :
Precursors for Copper Chemical Vapor Deposition
Author :
Paul Russo استاد مشاور , Andrew Maverick استاد راهنما , George Stanley استاد مشاور , Isiah Warner استاد مشاور
University :
Lovisiana State University
Grade :
دكتري
Major :
Doctor of Philosophy )Ph.D.( )Chemistry(
Number of pages :
0
Publish Date :
2002
Keyword :
copper)I( amides , copper)I( tetramers , copper)II( precursors , CVD , copper)I( precursors
Note :
01
Language :
انگليسي
Link To Document :
بازگشت