دراسة الخواص البنيوية والالكترونية والسعوية لفلم اكسيد الحديد المتشكل على الكترود الحديد في محلول البورات الموقي pH=9.3

ﯿرﺘﺒط ﻤﻔﻬوم ﺨﻤول اﻟﻤﻌدن ﺒﺎﻟﺨواص اﻹﻟﻛﺘروﻨﯿﺔ ﻷﻛﺴﯿد اﻟﻤﻌدن اﻟﻤﺘﺸﻛل ﻋﻠﻰ ﺴطﺤﻪ. د ُرس ﺘﺸﻛل ﻓﻠم اﻛﺴﯿد اﻟﺤدﯿد ﻋﻠﻰ ﺴطﺢ اﻟﻛﺘرود اﻟﺤدﯿد ﻓﻲ ﻤﺤﻠول اﻟﺒورات اﻟﻤوﻗﻲ pH=9.3 ﺒﺎﻟﻘﯿﺎس اﻟﻔوﻟطﺎﺌﻲ اﻟﺤﻠﻘﻲ وﻤﺠﻬر اﻟﻤﺎﺴﺢ اﻹﻟﻛﺘروﻨﻲ (SEM) وﻤﺠﻬر ﺘﺸﺘت اﺸﻌﺔ EDX) X)، واﻻﺴﺘﻘطﺎب اﻟﺒوﺘﺎﻨﺴﯿوﻤﺘري، وﻗﯿﺴت ﻤﻘﺎوﻤﺔ ﻓﻠم اﻛﺴﯿد اﻟﺤدﯿد اﻟﺜﻨﺎﺌﻲ (Fe(II وﺴﻌﺘﻪ ﺒﻤطﯿﺎﻓﯿﺔ اﻟﻤﻌﺎوﻗﺔ اﻟﻛﻬرﻛﯿﻤﯿﺎﺌﯿﺔ (EIS) ، ووُﺼّف اﻨﻪ ﻨﺼف ﻨﺎﻗل. ودُرﺴت اﻟﺨواص اﻹﻟﻛﺘروﻨﯿﺔ ﻟﻔﻠم اﻛﺴﯿد اﻟﺤدﯿد اﻟﻨﺼف ﻨﺎﻗل وﺤُ ﺴﺒت ﻛﺜﺎﻓﺔ اﻟذرات اﻟﻤﺎﻨﺤﺔ (ND) ﺒﺘﺤﻠﯿل( M-S) Mott-Schottky). ﯿﺘﺸﻛل ﻓﻠم اﻛﺴﯿد اﻟﺤدﯿد ﻋﻠﻰ ﺴطﺢ اﻟﺤدﯿد ﻓﻲ ﻤﺤﻠول اﻟﺒورات اﻟﻤوﻗﻲ pH=9.3 ﻓﻲ ﻤﺠﺎل و ُﯿﺸﻛل طﺒﻘﺔ واﻗﯿﺔ ﻤﻤﺎﻨﻌﺔ ﺘﺤﻤﻲ اﻟﺤدﯿد ﻤن اﻟﺘﺄﻛّل (+0.9Vاﻟﻰ -0.4V) ﻛﻤون ﺒﻤﻘﺎوﻤﺔ ﺠﯿدة ﻋﻨد اﻟﻛﻤوﻨﺎت اﻟﻤرﺘﻔﻌﺔ، وﻫو ﻨﺼف ﻨﺎﻗل ﻤن اﻟﻨوع n، ﻛﺜﺎﻓﺔ اﻟذرات اﻟﻤﺎﻨﺤﺔ ﻓﯿﻪ ﻤن رﺘﺒﺔ (3-10+21cm).