بررسي اثر دماي انباشت بر حساسيت لايه نازك تلوريوم نسبت به گاز سمي سولفيد هيدروژن

در این تحقیق از لایه نازك تلوریوم برای آشكارسازی گاز سولفید هیدروژن در دمای اتاق استفاده شده است. ضخامت nm 100 بر روی زیرلایه آلومینا با دماهای 300، 323 ، 348 و 373 كلوین انباشت شده اند. برای مشخصه یابی نمونه ها از آنالیز پراش پرتو ایكس (XRD) و میكروسكوپ الكترونی روبشی ( SEM) استفاده شده است. الگوهای XRD نشان می دهد كه با افزایش دمای انباشت شدت پیكها افزایش پیدا كرده كه این نشان دهنده بهبود بلوری شدن در لایه ها است. تصاویر بدست آمده از SEM نشان میدهد كه با افزایش دمای انباشت اندازه دانه ها بزرگتر شده و لایه ها متراكم تر شده است. با مطالعه اثر دمای انباشت بر آشكارسازی گاز H2S در دمای اتاق در میابیم كه با افزایش دمای انباشت حساسیت افزایش پیدا كرده و زمان پاسخ و ریكاوری كاهش پیدا كرده است.