اثر DMF برساختار تخلخلي سيليكان متخلخل

DMF effect on pore structure of porous silicon

استفاده از DMF ( دي متيل فرماميد ) در محلول الكتروليت شامل اسيد HF باعث ايجاد ساختار تخلخلي بـر روي پايـه هـاي سـيليكان تـك كريـستالي نـوع p- گرديد. تصويرهاي SEM نشان داد استفاده از DMF منجر به شكل گيري منظم تخلخل و ستونها مي شود . تاثير پارامترهاي آنديزاسيون مانند چگالي جريان در حضور DMF و عدم حضور آن در محلول الكتروليت بر روي ساختار تخلخلي نمونه ها بررسي شد . نتايج نشان داد كه افزايش چگال ي جريان در هردو حالت باعث افزايش تخلخـل مـي گردد . ليكن اين تاثير در حضور DMF بسيار واضح تر مي باشد . اندازه گيري درصد تخلخل نمونه ها با روش وزن سنجي gravimetric method نيز نشان داد كه . استفاده از DMF باعث ايجاد تخلخل دقيق تري در نمونه ها مي گردد.

By using DMF in electrolyte of HF solution caused pore structure on p-type monocrystalline Si. SEM images showed that using DMF causing to form regular and columns. Effect of anodization parametrs like current density in present of DMF and absent of DMF in electrolyte on pore structure of sampels has been studied. Results showed that increasing current density in both cases have been enhanced porosity. However, this effect in the present of DMF is clearer. Measuring porosity of sampels by gravimetric method also showed that using DMF caused obvious pores in the sampels