اثرات توان پلاسما بر رشد عمودي نانو لوله هاي كربني در روش لايه نشاني با بخار شيميايي به كمك پلاسما (PECVD)

Effects of plasma power on growth of vertical carbon nanotubes in plasma enhanced chemical vapor deposition method

رشد عمودي نانو لوله هاي كربني بر روي زير لاية سيليسيومي با استفاده از روش لايه نشاني با بخار شيميايي به كمك پلاسما انجام گرفته است . سيستم مورد نياز براي رشد نانو لوله ها در آزمايشگاه راه اندازي شده است و رشد عمودي نانو لوله هاي كربني با اعمال نيروي حاصل از ميدان الكتريكي پلاسما به هنگام رشد در اين روش امكان پذير است . نانو لوله ها با اعمال ميدان الكتريكي با شدت هاي متفاوت رشد داده شده اند . مشاهده شد كه راستاي رشد نانو لوله ها به شدت متأثر از ميدان الكتريكي اعمالي است . همچنين نانو لوله هاي با قطر كمتر به راحتي با جهت ميدان الكتريكي هم راستا مي شوند . كنترل اندازة نانودانه هاي كاتاليست جهت رشد نانو لوله هاي با قطرهاي مختلف نيز توسط اندازه گيري با ميكروسكوپ تونلي و ميكروسكوپ الكتروني روبشي انجام شده و مورد بررسي قرار گرفته است.

Growth of vertically aligned carbon nano tubes (CNTs) on the silicon substrate was carried out using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method. Growth setup was fabricated in our laboratory. By applying the electrical field of the plasma with various intensities, it was seen that the alignment of the CNTs was strongly under the influence of the electrical field. Also, narrower CNTs were easily aligned along the direction of the electrical field. In order to grow CNTs with different diameters, we have controlled the grain size of the nickel catalyst layer using scanning electron microscopy and scanning tunneling microscopy (STM)