مقايسه الگو پذيري دو پليمر SU-8 و Photoresist طي فرايند نانو ليتوگرافي توسط AFM

Patternability comparison between Photoresist and SU-8 polymers during AFM nanolithography

در اين تحقيق، با استفاده از ميكروسكوپ نيزوي اتمي (AFM) عمل ليتوگرافي در ابعاد نانو متري بر روي پليمرهاي Photoresist و SU-8 به عنوان ماسك انجام شد. ماسك هاي مزبور بر سطح زير لايه Si توسط روش لايه نشاني چرخشي تهيه گرديد. سپس الگو پذيري بر سطح اين دو پليمر از نظر تغيير شكل پلاستيكي با استفاده از تحليل ارتفاع خطوط ايجاد شده بررسي شد. به علاوه اثر افزايش سرعت روبش سوزن AFM در حين فرايند ليتوگرافي بر روي دو پليمر، تحقيق گشته است.

In this investigation, nano lithography has been performed on two kinds of polymer masks namely, photo resist and SU-8 obtained by spin coating on Si substrate. Patter nability of these polymers is studied from plastic deformation view point by analyzing depth of patterns. In addition, the effect of increasing the scan rate during the nano lithography process on the depth of patterns was also investigated on these polymers