تاثير دماي پخت لايه W اسپاتر شده در رشد نانو ميله هاي W17O47

Annealing temperature dependence on Formation of W17O47 nanorods using sputtered W film

در اين تحقيق ، براي اولين بار نانو ميله هاي اكسيد تنگستن با حرارت د ادن لايه نازك تنگستن كه با روش اسپاترينگ مغناطيسي DC بر روي سطح زيرلايه ميكا لايه دقيقه رشد داده 120 به مدت N2 در محيط گاز 9000 C دقيقه و دماي 15 به مدت H2 در محيط گاز 7000 C نشاني شده، در شرايط مشخص و كنترل پذير دماي به ترتيب ريخت شناسي ،شكل ، ابعاد و توزيع آنهادر سـطح شدند . با استفاده ازتكنيك ميكروسكوپي الكتروني روبشي SEM و همچنين پراش اشعه (XRD )X ( به ريخت شناسي ،شكل ، ابعادو توزيع آنهادر سـطح و همچنين تعيين فازها و ساختار كريستالي نانو ميله ها بررسي گرديد . بر اساس تحليل نتايج بدست آمده از آناليز هاي فوق، نانو ميله هاي سـنتز شـده توسـط ايـن روش داراي طول 1-5 µm و پهناي 70 -200 nm مي باشند و جهت كريستالي آنها در راستاي (400) تعيين شد .

In this research, initially tungsten thin films formed by DC magnetron sputtering method on mica substrate. The deposited films heated in a controlled conditions (temperature of 700oC for 15min under H2 environment and temperature of 900oC for 80min under N2 environment) producing W17O47 nanorod. Morphology, dimension and particle distribution of the samples have been investigated using SEM. Phase formation and crystallographic orientation along (400) direction of the grown nanorods were determined employing XRD technique .According to our data analysis, diameter and length of synthesized nanorods were measured between 70-200nm and 1-5μm, respectively