بررسي اثر فشار گاز پراكنش بر روي خواص ساختاري و الكترو نوري لايه هاي نازك اكسيد اينديم و قلع (ITO) ساخته شده روي زير لايه پلي ايميد انعطاف پذير

Influence of sputtering pressure on the structural and electro-optical properties of indium-tin-oxide (ITO) thin films deposited onto flexible polyimide substrate

در اين مقاله اثر فشار گاز پراكنشي آرگون( 22-42ميلي تور ) بر روي خواص ساختاري ، الكتريكي و نوري لايه هاي نازك اكسيد اينديم و قلع (ITO) كه با روش پراكنش RF و در دماي اتاق بر روي زيرلايه هاي انعطاف پذير پلي ايميد كپتون نوع HN نشانده شده اند ، بررسي شده است . آناليز XRD نشان مي دهد در فشارهاي پايين جهت ترجيحي لايه <111> مي باشد و با افزايش فشار جهت ترجيحي به <100> متمايل مي شود كه اين رفتار با توجه به انرژي ذرات رسيده به زيرلايه و همچنين تحرك اتمهاي روي سطح زيرلايه تحليل شده است . تغييرات عبور و رسانايي لايه ها نيز بر اساس محتواي اكسيژن لايه ها و ميزان تبلور آنها بررسي و تحليل شده است . فشار بهينه كه در آن ميان رسانايي بالا و عبور بالا سازگاري خوبي برقرار است 32 ميلي تور به دست آمده است .

The effect of sputtering pressure (22-42 mtorr) on the structural and electro-optical properties of Indium tin oxide (ITO) thin films deposited by RF sputtering and pure Ar plasma gas at room temperature onto flexible polyimide (kapton HN) substrate was studied . XRD analysis reveald that at low pressure preferential orientation was <111> and changed to <100> with increasing pressure . This behavior was described in terms of the energy of the particles arriving to the substrate and the adatom mobility on substrate. Change of transmission and electrical conductivity was described in terms of oxygen content and crystallinity. In the optimum sputtering pressure (32 mtorr) a good compromise between electrical conductivity and optical transmission of the films, was observed