بررسي خصوصيات اپتيكي لايه نازك نيتريد مس

Optical characterization of copper nitride thin film

لايه نازك نيتريد مس به روش كندو پاش فعال جريان مستقيم فعال تحت شرايط مقادير متفاوت گازهاي كاري نيتروژن و آرگون در دماي اتاق بر روي زير لايه ها شيشه رشد داده شد. تغيير مقدار نيتروژن در گاز كاري باعث تغيير جهت ترجيهي ساختار بلوري نيتريد مس گرديد. طيف بازتابي و عبوري لايه ها در بازه طول موجي 200-2000 نانومتر اندازه گيري شد. خصوصيات اپتيكي لايه نازك نيتريد مس متاثر از شرايط آزمايش بود. به طوري كه طيف عبوري لايه ها و ضريب جذب آنها با افزايش گاز نيتروژن در گاز كاري افزايش يافت. همچنين باند گپ لايه ها و قسمت حقيقي (1) و موهومي (k) ضريب شكست لايه ها محاسبه گرديد.

Copper nitride films were prepared on glass by reactive direct current magnetron sputtering at various Ar/N2 contents at room temperature. The X-ray diffraction measurement showed the phase change of the preferred orientation of CuzN planes of samples. Optical reflectance and transmittance spectra have been obtained in the range 200-2000 nm. The optical properties of the deposited films are influenced by the N2 partial pressure significantly. The optical transmittance of the films and the absorption coefficients values increase with increasing the nitrogen contents. The optical band gap of the films and both real (n) and imaginary (k) parts of the complex refractive index are calculated