رشد نانو ساختارهاي ZnO به روش PVD در حضور ميدان الكتريكي

Growth of ZnO nanostructures utilizing PVD method in presence of electric field

اكسيد روي بعلت داشتن گام انرژي پهن 3037eV و انرژي تحريك زياد meV 60 از اهميت ويژه اي برخوردار گشته است. ساختارهاي نانويي اكسيد روي ويژگي۔ هايي فراتر از اكسيد روي كپه اي از خود نشان ميدهند. در اين پژوهش نانوساختارهاي اكسيد روي به روش PVD بدين ترتيب توليد شد كه ابتدا در دستگاه لايه نشاني در خ Zn بر سطح شيشه اسلايد بعنوان زير آيند در حضور ميدان الكتريكي تبخير گرديد. سپس نمونه هاي حاصل در كوره لوله اي در فشار اتمسفر در دماي 550°C با شمارش lit / min 1 اكسيژن خالص به مدت 3 ساعت قرار داده شد. سپس از ميكرو تصوير FESEM تفاوت رشد سطحي لايه نانوساختار بررسي گرديد. مقايسه تصاوير نشان مي دهند كه اعمال و افزايش ميدان الكتريكي منجر به ايجاد نظم، افزايش هم راستايي و افزايش طول نانو ساختارها مي گردد.

Zinc oxide due to wide energy band gap of 3.37 eV and excitation energy of 60 meV is of particular importance. Nanostructures of Zinc oxide have shown characteristic much better than bulk state. In this research nanostructures of Zinc oxide are produced utilizing PVD method by evaporating zinc in vacuum coating system on soda lime glass in presence of electric field. Then the samples are annealed in 550ºC in tube furnace when oxygen flow was 1lit/min for 3 hours. FESEM micrographs show the electric field increases more directed and faster growth of nanorods and nanowires comparatively