بررسي بازدارندگي يك شيف باز جديد بر روي مس و بهبود راندمان آن با بنزوتري آزول در اسيد سولفوريك نيم مولار

The Investigation of inhibitive of a new Schiff base on copper and its modification with Benzotriazole in o.5M H2SO4

در اين تحقيق ميزان بازدارندگي يك شيف باز جديد بر روي مس و بهبود راندمان آن با بنزوتري آزول در اسيد سولفوريك نيم مولار با استفاده از روشهاي الكتروشيميايي (پتانسيوديناميك و AC امپدانس) بدست آورده شد. نتايج نشان دادند كه اضافه شدن شيف باز به اسيد سولفوريك نيم مولار باعث كاهش جريان خوردگي مس شده است و افزايش غلظت شيف باز، باعث افزايش درصد بازدارندگي آن شده است. با اضافه كردن 10ppm بنزوتري آزول به شيفت باز باعث افزايش بيشتر درصد بازدارندگي، نسبت به شيف باز تنها، شده است. نتايج منحني هاي نايكوئيست (AC امپدانس) نشان مي دهد كه اضافه شدن شيف باز باعث افزايش مقاومت انتقال بار و كاهش ظرفيت لايه دو گانه ( Cdl ) شده است و همچنين اضافه كردن 10 ppm بنزوتري آزول، باعث افزايش راندمان بازدارندگي شيف باز شده است. اين مخلوط ممانعت كننده مناسبي براي مس در اسيد سولفوريك نيم مولار مي باشد. همچنين جذب اين شيف باز به تنهايي و با اضافه كردن بنزوتري آزول به آن بر روي سطح مس از جذب ايزوترم لانگمير پيروي مي كنند.

This work, the inhibition efficiency of a new Schiff base (4-nitro-2-methoxy phenyl- N-salicylidine ) in 0.5 M H2SO4 has been studied by electrochemical tests (DC polarization and AC impedance), alone and in blends with benzotriazole . Results obtained reveal that the inhibition efficiency increased with increasing the Schiff base concentration. The inhibiting action of the Schiff base is considerably enhanced by the addition of 10 ppm bezotriazole . The results of Nyquist plots obtained from AC impedance show the charge transfer resistance and inhibition efficiency increase with the addition of 10 ppm benzotriazole. The adsorption of the Schiff base in the absence and presence of 10 ppm bezotriazole obeys Langmuir adsorption isotherm.