شماره ركورد كنفرانس :
3746
عنوان مقاله :
P75. محاسبه مونتكارلوي توزيع ضخامت لايههاي فلزي تهيه شده به روش لايهنشاني ليزرپالسي
عنوان به زبان ديگر :
Monte Carlo calculation of the thickness profiles of the metal films prepared by pulsed laser deposition technique
پديدآورندگان :
رشيديان وزيري محمدرضا rezaeerv@gmail.com پژوهشكده ليزر و اپتيك، پژوهشگاه علوم و فنون هسته اي، تهران؛ , مصطفوي حسيني افضل afzal_mostafavi@yahoo.com گروه فيزيك، دانشگاه پيام نور، مركز پرند؛ , هاشمي زاده عليرضا ahashemizadeh@yahoo.com گروه فيزيك، دانشگاه پيام نور، مركز پرند؛
عنوان كنفرانس :
سيزدهمين كنفرانس ماده چگال انجمن فيزيك ايران
چكيده فارسي :
در اين كار توزيع ضخامت لايههاي فلزي در روش لايه نشاني ليزر پالسي با محاسبات مونتكارلو مدلسازي شده است. نشان داده شده است كه به علت بالا بودن انرژي يونهاي برخوردكننده به سطح لايه در اين روش، نقش يونهاي كندوپاش شده از سطح در شكلگيري توزيع ضخامت لايهها با اهميت خواهد بود. نتايج بيانگر احتمال شكلگيري حفره در مركز لايههاي رشديافته به علت حجم بالاي كندوپاش است. علاوهبراين با كاهش وزن اتمي ماده مورد استفاده براي لايهنشاني، احتمال شكلگيري اين حفرهها در توزيع ضخامت بيشتر خواهد بود.
چكيده لاتين :
In this work, thickness profiles of metal films prepared by pulsed laser deposition technique are modeled using the Monte Carlo calculations. It is shown that due to the energetic nature of the impacting ions on the film surface, the sputtered ions play a dominant role in determining the thickness profiles of the prepared films. Results predict the possibility of dip formation at the center of the grown films due to the high rate of sputtering. Furthermore, it is shown that the possibility of dip formation is higher for materials with lower atomic weights.