مقايسه ويژگي‌هاي اپتيكي لايه اكسيد آلومينيم، Al2O3 ، توليد شده به روش تبخيري و كند و پاش مغناطيسي

Comparison of optical constant of Al2O3 films produced by electron beam method and RF magnetron sputtering

در اين مقاله لايه نازك اكسيد آلومينيوم، Al2O3 با دو روش تبخير با باريكه الكتروني و كندو‌پاش مغناطيسي راديو فركانس توليد شده است. طيف عبور نمونه‌ها را توسط يك اسپكتروفتومتر اندازه‌گيري كرده‌ايم. ثابت اپتيكي هر نمونه از روي طيف عبور آن محاسبه شده است. ميزان چگالي تراكم لايه‌ها با آزمايش جابجايي طيف در اثر رطوبت ارزيابي شده‌اند. نتايج حاكي از آن است كه لايه‌هاي توليد شده با روش كندوپاش مغناطيسي داراي چگالي تراكم بالاتري نسبت به لايه‌هاي توليد شده به روش تبخيري مي‌باشند . از طرف ديگر نمونه‌هاي توليد شده با روش كندوپاش مغناطيسي داراي جدب مي‌باشند.

In this paper, Al2O3 thin film has been produced by electron beam evaporation and RF magnetron sputtering. The transmittance spectrum of samples is recorded by a spectrophotometer. Using the transmittance spectrum, the optical constants of each sample is calculated. The packing densities of the samples are evaluated by humidity shift test. The results indicate that films produced by sputtering method have higher density than the films produced by evaporation method. On the other hand, the films produced with sputtering method have absorption.