پليمريزاسيون پلاسمايي با فركانس راديويي لايه نازك هاي سيليكون اكسي نيترايد در دماي پايين با استفاده از تركيب TEOS/O2/N2

Radio frequency plasma-polymerized organosilicon oxynitride thin films at low temperature using TEOS/O2/N2 mixture

پليمريزاسيون لايه نازك آلي سيليكون اكسي نيترايد (SiOxNy) بر روي زيرلايه ي پليمري پلي اتيلن ترفتالات (PET) توسط تكنيك رسوب گذاري به روش بخار شيميايي پلاسمايي در دماي پايين صورت گرفت. به منظور توليد پلاسما از منبع تغذيه ي پلاسماي فركانس راديويي (MHz 13/56) با كوپل خازني استفاده شد. تركيب گازي پيش ماده ي آلي-سيليكاتي تترااتيل اورتوسيليكات به همراه دو گاز اكسيژن و نيتروژن براي توليد لايه هاي شفاف آلي SiOxNy مورد استفاده قرار گرفت و اثر تغيير شار نيتروژن بر خواص اپتيكي و ساختاري لايه ها و همچنين مورفولوژي سطح آن ها بررسي و مطالعه شد. اندازه گيري ضخامت و ضريب شكست لايه ها توسط آناليز بيضي سنجي صورت گرفت. به منظور مطالعه ي مورفولوژي سطح لايه ها و ميزان ترشوندگي آن ها به ترتيب از ميكروسكوپ نيروي اتمي و آناليز اندازه گيري زاويه ي تماس آب استفاده شد. بررسي ميزان شفافيت لايه هاي توليد شده نيز توسط طيف سنجي جذب و عبور انجام شد.

Plasma-polymerized organosilicon oxynitride thin film deposited on polyethylene terephthalate substrate by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature. The PECVD reactor utilizes a capacitively coupled plasma operated at radio frequency plasma. The gas mixture of tetraethylorthosilicate as organosilicon precursor with oxygen and nitrogen gasses were used to deposit the transparent SiOxNy thin films and the effect of varying the nitrogen flow rate on the optical, structural and surface morphology of the films were investigated. The films thicknesses and their refractive indexes were measured by ellipsometry analyze. The surface morphology and wettability of the films were studied by atomic force microscopy and drop analysis, respectively. To evaluate the films optical transparency the UV-Visible analyze was applied.