پديدآورندگان :
الله يار سهيل s.allahyar.du@gmail.com گروه فيزيك، دانشگاه دامغان،دامغان؛ , باقري محققي محمد مهدي adelifard@du.ac.ir گروه فيزيك، دانشگاه دامغان،دامغان؛ , عادلي فرد مهدي bmohagheghi@du.ac.ir گروه فيزيك، دانشگاه دامغان،دامغان؛
چكيده فارسي :
در اين مقاله ذرات سيليكون با خلوص بالا به وسيله‌ي روش احياي شيميايي و حرارتي در اثر انجام واكنش در نسبت‌هاي مختلف منيزيم به سيليس مورد تهيه قرار گرفت. نتايج بدست آمده از ذرات سنتز شده نشان داد،روش احياي شيميايي و گرمايي، فرآيند مؤثري براي تهيه ذرات سيليكون با خلوص بسيار بالا مي‌باشد. از آناليز الگوي پراش پرتو ايكس (XRD) به منظور تعيين نسبت بهينه و تعيين فازهاي حاصل از فرآيند احيا استفاده گرديد در ادامه به منظور افزايش خلوص ذرات بدست آمده از فرآيند احيا، تركيبهاي بين فلزي اضافي با استفاده از اسيد هيدروكلريدريك حذف گرديد.
