اثر فشار و بازپخت شدن بر روي ويژگي هاي اپتيكي لايه نازك دي اكسيد تيتانيم TiO2 توليده شده به روش كندو پاش مغناطيسي

The effect of the pressure and annealing on the optical properties of titanium dioxide TiO2 film produced by magnetron sputtering

در اين مقاله لايه نازك دي اكسيد تيتانيم با روش كندو پاش مغناطيسي بر روي زير لايه شيشه در فشارهاي متفاوت توليد شده اند.توان منبع تغذيه و نسبت گاز اكسيژن به آرگون در همه آزمايش ها يكسان است. اثر فشار بر روي نرخ رشد لايه بررسي شده است. دو نمونه در شرايط اتمسفر در دماي 300 درجه سلسيوس باز پخت شده است. طيف عبور نمونه ها قبل و بعد از بازپخت در بازه طول موجي 1000-400 نانومتر اندازه گيري شده اند. تغييرات نرخ رشد لايه ها با تغييرات فشار تجزيه و تحليل شدند. همچنين نتايج نشان مي دهد كه عمل بازپخت كردن منجر به كاهش جدب لايه مي شود.

In this paper, titanium dioxide films have been produced by magnetron sputtering on a glass substrate at different pressures. Power and oxygen to argon ratio is the same in all tests. The effect of pressure on the growth rate of the film is investigated. Two samples are annealed at a temperature of 300 degrees Celsius. Transmission spectrum of the samples is measured at 400-1000 nm wavelength ranges before and after annealing. Variations of film growth rate with pressure are analyzed. Also the results show that the annealing operation leads to the reduction absorption of the film.