مشخصه يابي پلاسمايي و خواص ساختاري لايه نازك هاي سيليكون اكسي نيترايد لايه نشاني شده توسط سيستم پلاسمايي كوپل خازني با فركانس راديويي بر روي پليمر PET

Plasma diagnostics and structural properties of silicon oxynitride thin films deposited by capacitively coupled plasma on PET polymer

لايه نازك هاي سيليكوناكسي نيترايد (SiOxNY) با استفاده از تكنيك رسوب گذاري بخار شيميايي پلاسمايي (PECVD) بر روي زيرلايه هاي پليمري پلي اتيلن ترفتالات (PET) در دماي پايين لايه نشاني شدند. در اين پليمريزاسيون از تركيب گازي پيش ماده ي آلي-سيليكاتي تترااتيل اورتوسيليكات (TEOS)، اكسيژن و نيتروژن براي توليد لايه ها استفاده شد. منبع توليد پلاسما، منبع تغذيه ي پلاسماي كوپل خازني با فركانس راديويي MHz 13/56 بوده و پلاسماي توليدي مشخصه يابي شده و خواص ساختاري لايه ها مورد بررسي قرار گرفت. مطالعه ي پلاسما در روند آزمايش توسط آناليز طيف سنجي گسيلي نوري (OES) بوده و اندازه گيري ضخامت لايه ها از طريق آناليز بيضي سنجي انجام شد و در نتيجه آهنگ رسوب گذاري لايه ها مورد بررسي واقع شد. همچنين مطالعه ي مورفولوژي سطح و ميزان زبري آن ها توسط ميكروسكوپ نيروي اتمي صورت گرفت.

Silicon oxynitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on the polyethylene terephthalate (PET) polymeric substrate at low temperature. The polymerization was driven by a capacitively coupled radio frequency plasma using a gas mixture of tetraethyl orthosilicate (TEOS) as silicon precursor, Oxygen and Nitrogen gases. Optical emission spectroscopy (OES) was applied to monitor the plasma parameters. The films thicknesses measured by ellipsometry analyze, so the deposition rates were evaluated. Moreover the surface morphology of the thin films were studied by atomic force microscopy.