مطالعه ساختاري و مورفولوژي لايه هاي نازك اكسيد واناديوم

Structural and morphological study of vanadium oxide thin films

در اين تحقيق رشد واناديوم پنتااكسايد بر روي زيرلايه شيشه به وسيله روش نهشت بخار شيميايي در فشار اتمسفر بين دماهاي °C300 تا °C 600 درجه سلسيوس انجام شده است. سپس در مرحله ي بازپخت، دما از °C 250 تا °C 550 درجه سلسيوس بر روي نمونه ها اعمال شده است و زمان بازپخت در 30 دقيقه، 1 ساعت، 2 ساعت، 3 ساعت و 5 ساعت مورد بررسي قرار گرفته است. نمونه ها با استفاده از اثر هال، روبش ميكروسكوپ الكتروني گسيل ميداني و پراش اشعه ايكس بررسي شده اند. خواص الكتريكي واناديوم پنتااكسايد (۵O۲V) به وسيله اثرهال به منظور مشخص كردن بهترين لايه از نظر مقاومت سطحي و تحرك پذيري اندازه گيري شده است. ساختار كريستالي به وسيله پراش اشعه ايكس به منظور مشخص كردن بهترين لايه از لحاظ ساختار و پيك هاي مربوط به ۵O۲V بررسي شده است. لايه در دماي °C350 به صورت پلي كرستالي است. در دماهاي لايه نشاني بالاتر از °C 450 جهت گيري كريستالي تغيير مي كند. همچنين مورفولوژي سطح فيلم ها به وسيله روبش ميكروسكوپ الكتروني گسيل ميداني بررسي شده است.