ساخت تك لايه ضد بازتاب پهن باند بر زير لايه سيليكوني به روش متخلخل سازي به وسيله سونش شيميايي

يكي از روش هاي موثر ساخت تك لايه ضد بازتاب، سونش شيميايي به كمك فلز (MACE) در دماي محيط است. نانو ساختار هاي سيليكوني با لايه نشاني نانو ذرات نقره به روش غوطه وري در بازه هاي زماني متفاوت و زمان سونش مختلف بر روي زير لايه سيليكون ساخته شده اند. بازتاب سطح متخلخل سيليكون با زمان لايه نشاني 40 ثانيه و مدت زمان سونش 5 ساعت، در بازه طيفي 400-5000 نانومتر به كمتر از 2/1% رسيده است. بنابراين مي توان با هزينه كم و بدون تجهيزات پيشرفته در دماي محيط، به ساختار تك لايه ضد بازتاب در پهناي طيفي وسيع دست يافت، كه در بسياري از سامانه هاي اپتيكي و ياخته هاي خورشيدي براي افزايش بازده و كارايي كاربرد دارد.