طراحي و شبيه سازي لايه هاي هسته و پوشش براي مدولاتور الكترو- اپتيك پليمري

در اين مقاله ضخامت لايه هاي هسته و پوشش بكار رفته براي ساخت يك مدولاتور موجبري الكترو-اپتيك پليمري بر روي زيرلايه سيليكون طراحي و شبيه سازي شده است. براي شبيه سازي پارامترهاي مختلف اين مدولاتور معرفي شده از روش انتشار پرتو (BPM) استفاده شده است. ضخامت مناسب لايه هسته براي ساختن موجبر در عمق فيلم، ضخامت كافي لايه هاي پوشش بالايي و پاييني براي كاهش تلفات ناشي از جذب نور توسط الكترود فلزي، ضريب شكست بالاي زيرلايه و از طرفي افزايش بازدهي مدولاسيون محاسبه شده است. ضخامت لايه پوشش به‌گونه‌اي تعيين شده است كه به ازاي تزويج نور ليزر با طول موج 980 نانومتر و قطبش TM، كمتر از 10% دامنه مود اصلي موجبر به لايه هاي پوشش برسد. براي زيرلايه سيليكون پوشانده شده با SiO2 به ضخامت 400 نانومتر، لايه هسته با ضريب شكست 1/63و ضخامت 3 ميكرومتر بين دو لايه پوشش زير و رو به ضريب شكست 1/51 و ضخامت هاي به ترتيب 1 و 1/5 ميكرومتر طراحي شده است.