بهينه سازي روش شيميايي توليد نانوصفحات اكسيد گرافن

توليد اكسيد گرافن با روش شيميايي و تبديل آن به نانوصفحات گرافني احيا شده، در بسياري از حوزه هاي فناوري هاي نو مورد استفاده قرار مي گيرد. اخيرا روش هاي مختلفي جهت توليد نانو صفحات اكسيد گرافن پيشنهاد گرديده است كه عمدتا بر اساس استفاده از اكسيدكننده هاي قوي، كوئنچ دما بالا و بهره گيري از رژيم هاي منظمي از امواج مافوق صوت جهت تورق صفحات بِسل گرافيت پايه-گذاري شده است. در اين پژوهش با استفاده از مشخصه يابي دقيق روش هاي توليد شيميايي، نانوصفحات اكسيد گرافن با روش شيميايي اصلاح شده، ضمن تكرار پذيري مطلوب و با كيفيت بالا توليد شده است. در اين راستا از آزمون هاي تفرق اشعه ايكس (XRD)، طيف سنجي تبديل فوريه مادون قرمز (FTIR)، طيف سنجي رامان (Raman Spectroscopy) و ميكروسكوپ الكتروني روبشي نشر ميداني (FE-SEM) استفاده گرديد. نتايج نشان دهنده پيك XRD در زاويه پراش 5/9 درجه، ايجاد گروه هاي عاملي اپوكسي، كربوكسيل و هيدروكسيل با شدت مطلوب در آزمون FTIR و باندهاي D و G در طيف سنجي رامان مي باشد.