محاسبه مونت كارلوي توزيع ضخامت لايه هاي فلزي تهيه شده به روش لايه نشاني ليزر پالسي

Monte Carlo calculation of the thickness profiles of the metal films prepared by pulsed laser deposition technique

در اين كار توزيع ضخامت لايه هاي فلزي در روش لايه نشاني ليزر پالسي با محاسبات مونت كارلو مدل سازي شده است. نشان داده شده است كه به علت بالا بودن انرژي يون هاي برخوردكننده به سطح لايه در اين روش، نقش يون هاي كندوپاش شده از سطح در شكل گيري توزيع ضخامت لايه ها با اهميت خواهد بود. نتايج بيانگر احتمال شكل گيري حفره در مركز لايه هاي رشديافته به علت حجم بالاي كندوپاش است. علاوه بر اين با كاهش وزن اتمي ماده مورد استفاده براي لايه نشاني، احتمال شكل گيري اين حفره ها در توزيع ضخامت بيشتر خواهد بود.

In this work, thickness profiles of metal films prepared by pulsed laser deposition technique are modeled using the Monte Carlo calculations. It is shown that due to the energetic nature of the impacting ions on the film surface, the sputtered ions play a dominant role in determining the thickness profiles of the prepared films. Results predict the possibility of dip formation at the center of the grown films due to the high rate of sputtering. Furthermore, it is shown that the possibility of dip formation is higher for materials with lower atomic weights