شاخص توانايي تابعي پروفايل هاي غيرخطي

Functional Process Capability Indices for Nonlinear Profile

در سال هاي اخير در كنار تكنيكهاي كنترل كيفيت يك يا چند متغيره ، پايش پروفايل ها مورد توجه محققان و كاربران بسياري قرار گرفته است. يك پروفايل رابطه بين متغير پاسخ و متغير مستقل است كه در طول زمان كنترل مي گردد. از طرف ديگر شاخص توانايي فرآيند، معياري براي ارزيابي عملكرد فرآيند در توليد محصولات منطبق مي باشد. با توجه به كاربرد زياد پروفايل و روشهاي مختلفي كه براي پايش انواع آن ارائه شده، اما تحقيقات كمي در مورد تعيين شاخص توانايي فرآيندهاي پروفايلي انجام گرفته است. شاخص هاي توانايي فرآيند مانند cp و cpk در حالت پروفايلي براي ارزيابي توانايي فرآيند در توليد پروفايل هاي منطبق مورد استفاده قرار مي گيرد. در اين تحقيق رويكرد تابعي براي پروفايل هاي غيرخطي كه معمولا به صورت رگرسيون غيرخطي نمايش داده ميشوند ارائه مي گردد. بدين منظور توابع مربوط به حدود مشخصه هاي فني، ميانگين و حدود تلرانس طبيعي به صورت پروفايل هاي غيرخطي تعيين مي شوند و با استفاده از حدود تابعي اقدام به تعيين شاخص توانايي cp و cpk تابعي پروفايل غير خطي مي شود.

A profile is a relation between one response variable and one or more explanatory variables that represent the quality of a product or the performance of a process. Process Capability Indices (PCI) are measured to evaluate processes in producing conforming products. All existing methods that measure process capability indices in a nonlinear profile consider response variables at some levels of explanatory variable and ignore all ranges of x-values. In this paper, a functional approach is proposed to measure the process capability index of nonlinear profiles in all ranges of explanatory variable. This new approach follows the traditional definition of process capability indices and leads to their accurate values for a nonlinear profile. The functional approach uses a reference profile, functional specification limits and functional natural tolerance limits to present a functional form of process capability indices. This functional form results in measuring the process capability at each level of the explanatory variable in a nonlinear profile, as well as the unique value of a process capability index for a nonlinear profile.