ساخت لايه هاي نازك ITO بعنوان الكترودهاي شفاف و پوشش ضد انعكاس در سلولهاي خورشيدي

Preparation of ITO Thin Films as a Transparent Electrode and Anti-Reflection Coating In Thin Film Solar Cells

خواص الكترواپتيكي و ساختاري لايه هاي ITO بر حسب تابعي از دماي گرمادهي نهايي مورد بررسي قرار گرفت و ديده شد كه در دماي 400 درجه مقاومت سطحي لايه ها به كمترين مقدار خود رسيده و در اين دما لايه ها در جهت (222) كريستال شده اند . تاثير خواص كريستالي لايه ها روي خواص الكترواپتيكي آنها نيز مورد بررسي قرار گرفته است

ITO thin films were deposited on to glass substrate by an RF sputtering system.The electrical, optical, and structural properties of the films have been investigated as a function of post deposition. In an optimum annealing temperature of 400°C we have found that a maximized conductivity, good crystallinity and larger grain size of films is achieved without a remarkable change in their transparency.