مطالعه اثر دماي باز پخت بر خواص ساختاري و اپتيكي نيم رساناي تركيبي دوتايي اكسيد مس - آلومينيم تهيه شده به روش اسپري پايروليزيز

Study on the annealing temperature effect on structural and optical properties of copperaluminium oxide binary compound semiconductor prepared by spray pyrolysis technique

لايه نازك اكسيد مس آلومينيم در دماي بستر 550 درجه سانتيگراد با استفاده از محلول آبي كلريد مس و كلريد آلومينيم بر روي بستر كوارتز به روش اسپري پايروليزيز تهيه شد. اين نمونه در دو دماي 850 و 1000 درجه سانتيگراد باز پخت شد. مشخصه يابي هاي ساختاري و اپتيكي نمونه ها بوسيله طيف XRD ميكروسكوپ الكتروني روبشي (FESEM) و طيف عبوري ( UV - vis ) مطالعه شدند. مشخصه يابي ساختاري افزايش شدت قله ها را كه نشان دهنده تاثير ده اي باز پخت است، بيان مي كند. همچنين مشخصه يابي ساختاري حاكي از تشكيل فاز CuO در نمونه رشد داده شده و نيز تشكيل فاز CuA1204 علاوه بر فاز CuO در نمونه هاي باز پختي مي باشد. بررسي هاي اپتيكي نشان داد بعد از باز پخت، ميزان عبور متوسط در گستره نور مرئي (mm 400 - 700 ) در نمونه ها افزايش يافت. همچنين باز پخت سبب افزايش گاف نواري مستقيم نمونه ها در محدوده 2/91 تا 3/25 eV شده است.

Copper- aluminium oxide thin film were deposited at substrate temperature of 550°C using an aqueous solution of copper chloride and aluminium chloride on the quartz substrate by spray pyrolysis method. This sample annealed at two temperature 850 and 1000°c. The structural and optical characterizations of samples were studied using XRD, scanning electron microscope (FESEM) and the transmittance spectrums (UV-vis). The structural characterization, increasing intensity of the peaks that indicating effect annealing temperature is expressed. Also structural characterization indication the formation of CuO phase in as- grown sample and also formation CuAl2O4 phase in addition CuO phase at annealed sample. Optical studies showed that after annealing, the transmittance of the samples at the range visible light (400-700 nm) increased. Also annealing make increasing in direct band gap of samples in the range of 2.91 to 3.25 eV.