تاثير توان انباشت بر خواص نانو ساختاري و اپتيكي لايه هاي نازك نيتريد موليبدن

Effect of deposition power on nanostructure and optical properties of Molybdenum Nitride Thin Films

در اين تحقيق لايه هاي نازك نيتريد موليبدن با استفاده از روش كندو پاش مگنترون واكنشي DC بر روي زيرلايه هاي كوارتز انباشت شده اند. با استفاده از آناليزهاي مختلف مانند پراش پرتو ايكس (XRD)، ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) و اسپكتروفتومتري تاثير توان انباشت بر روي ويژگي هاي ساختاري، مورفولوژي سطح و اپتيكي لايه ها بررسي شده است. نتايج آناليز XRD بيانگر آن است كه ساختار لايه هاي نيتريد موليبدن به صورت آمورف مي باشد. نتايج آناليز AFM نيز نشان مي دهد كه مورفولوژي سطح لايه ها تحت تاثير توان انباشت قرار گرفته است. همچنين نتايج آناليز اسپكتروفتومتري بيانگر آن است كه با افزايش توان انباشت ميزان طيف عبوري كاهش و طيف جذب افزايش مي يابد..

In this study molybdenum nitride thin films have been deposited on quartz substrates using DC reactive magnetron sputtering method. The effect of deposition power on structural, morphological and optical properties of thin films was investigated by different analysis such as XRD, AFM and spectrophotometry. The XRD results show that the structure of molybdenum nitride films is amorphous. AFM analysis indicates that the films surface morphology is influenced by the deposition power. Also, spectrophotometry analysis demonstrates that transmittance spectra decrease by increasing deposition power and the absorption spectra increase.