بررسي تاثير دماي زيرلايه بر روي خواص ساختاري ، الكتريكي و مكانيكي لايه هاي نازك نيتريد تيتانيوم تهيه شده به روش كندوپاش مگنوتروني واكنشي

Investigating the effect of substrate temperature on structural, electrical and mechanical properties of titanium nitride thin films prepared by reactive magnetron sputtering method

در اين پژوهش لايه هاي نازك نيتريد تيتانيوم با استفاده از گاز كندوپاشي آرگون و گاز واكنشي نيتروژن به روش كندوپاش پلاسمايي واكنشي تهيه شدند و تاثير تغييرات دماي زيرلايه بر شكل گيري و خواص فيزيكي لايهها مورد بررسي قرار گرفت. نتايج نشاندهنده آن است كه با افزايش دماي زيرلايه، اندازه دانه ها و سختي مكانيكي لايه هاي تهيه شده افزايش، و مقاومت الكتريكي ويژه آنها كاهش مي يابد.

In this investigation titanium nitride thin films were prepared using argon and nitrogen gases as sputtering and reactive gases respectively by reactive plasma sputtering method and the effect of substrate temperature on forming and physical properties of the films were analyzed. The results indicate that grain size and hardness of the layers increase, while their resistivity decreases as the substrate temperature increases.