شماره ركورد كنفرانس :
3298
عنوان مقاله :
انتهاي جاده سيليكون اكسيد فوق نازك (<2nm) به عنوان دي الكتريك گيت در CMOS ؟
پديدآورندگان :
بهاري، علي دانشگاه مازندران - دانشكده علوم پايه - گروه فيزيك
كليدواژه :
خواص ساختاري سيستمها , الكترون اسپكتروسكوپي , تابش سينكرترون , تراشه هاي كامپيوتر
عنوان كنفرانس :
كنفرانس فيزيك ايران ۱۳۸۵
چكيده فارسي :
تراشه هاي كامپيوتر و ابعاد قطعات الكترونيكي كوچكتر و كوچكتر مي شوند . گيت اكسيد فوق نازك در قطعات CMOS براي تحول سيليكون نياز مي باشد، CMOS نانومتر يا نازك تر كه در توليدات آتي 1 ( برابر SiO2 – ميكرو و نانو الكترونيك بسيار با اهميت است . ضخامت موثر ( معادل بقدري نازك است تا بتواند مانع جريات تونل زني , نشتي و نفوذ بورن ازالكترود پلي سيليكون در اكسيد سيليكون شود . با وجود اين سيليكون هنوز يك مولفه حياتي در صنعت است . مقاله حاضر يك كوششي در رشد اكسيد فوق نازك را شرح مي دهد و نشان مي دهد كه رشد بصورت خود - اشباعي است كه پيشتر مشاهده نشده بود . تحقيقات حاضر بر خواص ساختاري سيستمها متمركز شده است و با الكترون اسپكتروسكوپي، عمدتاً فوتوگسيلي، تابش سينكرترون در UHV مورد مطالعه قرار گرفته است .