توليد نانو پوشش مس به روش ابكاري الكتريكي با جريان پالسي و مقايسه خواص مكانيكي و خوردگي آن با پوشش بدست آمده از جريان مستقيم

Applying copper nano coating using electropulseplating and comparison of mechanical properties with DC electroplating

هدف از انجام اين تحقيق بررسي خواص پوشش هاي مس توليدي به روش جريان پالسي و مقايسه آن با پوشش بدست آمده از جريان مستقيم است كه به علت اينكه در آبكاري پالسي امكان كنترل بهتر فرآيند توليد رسوب با ساختار و خواص منحصر به فرد وجود دارد در نتيجه مي توان رسوباتي با اندازه نانو توليد كرد كه خواص مكانيكي و خوردگي آن به مراتب در مقايسه با پوشش بدست آمده از جريان مستقيم و حتي مس زير لايه بهتر و مقاوم تر است. با تغيير پارامترهاي مربوط به جريان پالسي از قبيل فركانس ، دانسيته جريان اعمالي و زمان روشن و خاموش اعمال پالس به مقدار بهينه اندازه دانه رسيده و با آناليز توسط دستگاه هاي SEM و XRD و ميكرو سختي بررسي بر روي پوشش ها انجام شد. نتايج بيان مي كند كه با ريز شدن اندازه دانه هاي پوشش مس مس توان به خواص مطلوب تري رسيد. همچنين باافزايش فركانس و كاهش زمان روشن در آبكاري با جريان پالسي مي توان به يكنواختي بالاتري دست يافت.

In this study, the properties of copper coatings applied by DC and PC electroplating method were investigated. Electro pulse plating method has this advantage that deposition process could be under control in accordance to reach nano scaled grain sizes. Nano grain size in the coating leads to high mechanical properties and corrosion resistance. Changing pulse parameters such as on & off-time, frequency and current density leaded us to optimum morphology analyzed by SEM and XRD and etc. the final results show that higher frequency and less on-time in pulse methods, decreases grain size and consequently increases homogeneity and mechanical properties.