ميكرو-نانو ساختارهاي سه بعدي توليد شده به روش فوتوپليمريزاسيون بر پايه جذب دو فوتوني

Micro-nano 3D structuring based on two-photon photopolymerization

توليد ساختارهاي ميكروني به روش فوتوپليمريزاسيون با استفاده از ليزر داراي محدوديت رزولوشن به علت پديده پراش است كه توسط طول موج ليزر و اپتيك مورد استفاده تعيين مي شود. براي رسيدن به رزولوشن بهتر در حد كسري از طول موج تنها روش استفاده از جذب چند فوتوني مثل جذب دو فوتوني مي باشد. در اين كار نتايج اندازه گيري سطح مقطع جذب دو فوتوني براي يك آغازگر دو فوتوني با استفاده از تكنيك زي-اسكن باز ارائه شده و سپس از اين آغازگر براي توليد ميكرو ساختار پليمري بر پايه جذب دو فوتوني استفاده شده. ساختارهاي توليد شده داراي رزولوشن چند صد نانو متر مي باشند كه بسيار بهتر از حد تحميل شده توسط پراش براي چيدمان استفاده شده براي فرايند فوتوپليمريزاسيون دو فوتوني مي باشد.

Based on linear absorption photopolymerization it is not possible to create 3D microstructure with resolution below the diffraction limit which depends on the wavelength of the laser beam used for photopolymerization as well as the optics used for focusing the laser beam. Using high intense laser beam with wavelength beyond the linear absorption spectrum it is possible to create structures based on two-photon photopolymerization (2PP) with resolutions below the diffraction limit. In this work we determined the two-photon absorption (2PA) cross section of a two-photon initiator (2PI) using an open-aperture Z-scan. Then we utilized the examined 2PI for creating 3D microstructures based on 2PP. The realized structures illustrate the resolution of a few 100 nm which is well below the diffraction limit of the setup used for the structuring. #38;nbsp; #38;nbsp;