بررسي مكانيزم رسوب دهي الكتروشيميايي پوشش چندلايه مس/ نيكل- فسفر با استفاده از مطالعات كرونوآمپرومتري

در اين پژوهش مكانيزم رسوب دهي الكتروشيميايي پوشش چندلايه مس/نيكل-فسفر از روش تك-حمام با استفاده از روش كرونوآمپرومتري مورد بررسي قرار گرفت. در اين راستا اثر تك تك اجزاي حمام مورد مطالعه قرار گرفته و منحني هاي جريان گذراي آن ها با مدل هاي جوانه زني دو بعدي و سه بعدي انطابق داده شد. با توجه به احياي همزمان كاتيون هاي هيدروژن در محدوده ي پتانسيل احياي نيكل، در انطباق ها سهم چگالي جريان آن و نيز سهم چگالي هاي جريان جذب سطحي و شارژ شدن خازن لايه دوگانه الكتريكي مدنظر قرار داده شد. مكانيزم احيا از حمام نهايي به صورت جوانه زني و رشد سه بعدي لحظه اي نفوذ كنترل بود كه با توجه به نتايج ساير محلول هاي مورد مطالعه، وجود مس و فسفر اثر تشويقي بر جوانه زني سه بعدي لايه هاي غني از نيكل داشته اند. از سوي ديگر، با وجود اينكه حمام سيتراتي مس-نيكل اغلب براي رسوب دهي آلياژي مورد استفاده قرار مي گيرد، اما آزمون هاي AAS و EDX نشان داد كه در پتانسيل هاي منفي تر ازV 8/0- امكان رسوب دهي لايه هاي غني از نيكل فراهم بوده و مي توان در رسوبات، بالاي 90 درصد نيكل داشت. همچنين آناليز EDX هم نشيني فسفر با نيكل را در محدوده پتانسيل احياي نيكل اثبات نمود. در انتها مورفولوژي تك لايه هاي غني از مس و غني از نيكل توسط آناليز FE-SEM بررسي شد كه نتايج، تشكيل رسوبات هم اندازه و كروي شكل را نشان داده و صحت مكانيزم به دست آمده توسط روش كرونوآمپرومتري را تاييد نمود. بنابراين در نهايت، پتانسيل هاي V vs. SCE3/0- و 1/1- به ترتيب براي تهيه لايه هاي غني از مس و غني از نيكل، با مورفولوژي، اندازه دانه و يكنواختي مناسب انتخاب شد.