ارزيابي خواص ساختاري، اپتيكي و ترشوندگي لايه نازك SiCON اعمالي به روش كندوپاش مغناطيسي

در اين تحقيق لايه نشاني لايه نازك سيليكون كربن اكسي نيتريد روي زيرلايه سيليكوني به روش كندوپاش مغناطيسي راديو فركانسي صورت گرفت. آزمون پراش پرتو ايكس به روش گريزينگ به منظور بررسي ساختار لايه نازك انجام شد. همچنين آزمون رامان با هدف تعيين حضور يا عدم حضور نانوكريستال ها در ساختار انجام شد. از آزمون بازتاب كلي تضعيف شده تبديل فوريه مادون قرمز به منظور شناسايي پيوندهاي شيميايي سطحي استفاده شد. با استفاده از اليپسومتري و آزمون تبديل فوريه مادون قرمز، تعيين پارامترهاي اپتيكي لايه نازك صورت گرفت. آزمون ميكروسكوپي نيروي اتمي براي بررسي توپوگرافي و زبري سطح لايه نازك انجام شد. در نهايت زوايه تماس قطره آب روي سطح لايه نازك به وسيله تصويربرداري با دوربين ديجيتال تعيين شد. نتايج آزمون پراش پرتو ايكس به روش گريزينگ تشكيل ساختار آمورف در لايه نازك را اثبات نمود. همچنين آزمون رامان عدم تشكيل نانوكريستال هاي گرافيت در ساختار پوشش را تعيين نمود. نتايج آزمون اليپسومتري نشان داد كه ضريب شكست سيليكون كربن اكسي نيتريد اعمالي در طول موج 4 ميكرون برابر با 43/1 مي باشد. آزمون ميكروسكوپي نيروي اتمي نشان داد، لايه نازك سيليكون كربن اكسي نيتريد با RMS برابر با nm 01/1 تشكيل مي شود. اندازه گيري زاويه تماس قطره آب مشخص نمود كه لايه نازك سيليكون كربن اكسي نيتريد آب دوست مي باشد.