تأثير دماي بازپخت حرارتي بر ويژگي‌هاي ساختاري و مورفولوژيكي لايه‌هاي نازك اكسيد نيكل آلاييده با مس توسط كندوپاش مغناطيسي RF‏

Effect of Annealing Temperatures on Structural and Morphological Properties of Copper doped Nickel Oxide Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering

لايه نازك اكسيد نيكل (NiO) يك اكسيد فلزي است كه در سال هاي اخير به دليل سازگاري با محيط زيست مورد توجه بسياري قرار گرفته است. علاوه بر اين، با ناخالصي هايي مانند مس (Cu) در لايه هاي NiO مي توان خواص لايه هاي تهيه شده را تغيير داد. در اين مطالعه، لايه‌هاي نازك NiO:Cu بر روي زير لايه سيليكوني با روش كندوپاش مغناطيسي واكنشي راديويي در محيط پلاسماانباشت شدند. سپس لايه هاي انباشت شده در دماهاي مختلف 200-600 درجه سانتي‌گراد بازپخت حرارتي شدند. نتايج پراش پرتو اشعه ايكس (XRD) نشان داد كه تمامي لايه‌هاي انباشت شده غير كريستالي هستند و خواص ساختاري لايه ها با دماي بازپخت تغيير نمي‌كند. همچنين، تصاوير ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) نشان داد كه مورفولوژي سطح لايه‌ها تحت تأثير دماي بازپخت حرارتي قرار مي‌گيرد. ريشه ميانگين مربعات زبري (Rms) و مقادير متوسط زبري (Ra) از مشاهدات AFM‏ به دست آمد. آناليز FTIR پيك‌هايي را در عدد موج 1- cm 528 و1- cm 742 نشان مي‌دهد كه مربوط به حالت كشش Ni-O و ارتعاشات خمشي پيوند Cu-O است.