اثر به كارگيري اهداف نانوساختار مختلف بر گسيل خطي اشعه ايكس سخت از پلاسماي حاصل از ليزرهاي پالسي بلند پرتوان

پديدآورندگان

آي سان دائي عطاءاله نويسنده فيزيك، دانشگاه علم و صنعت ايران، نارمك تهران , مهديه محمدحسين نويسنده , صنعتي علي نويسنده

تعداد صفحه

4

كليدواژه

هدف نانوساختار فلزي , گسيل خطي , پلاسماي توليد شده توسط ليزر , اشعه ايكس سخت

عنوان كنفرانس

شانزدهمين كفنراسن اپتيك و فوتونيك ايران و دومين كنفرانس مهندسي فوتونيك ايران

زبان مدرك

فارسی

چكيده فارسي

report iconخلاصه مقاله: در اين مقاله گسيل اشعه ايكس سخت گسسته از پلاسماي توليد شده توسط تابش دهي اهداف فلزي نانوساختار آهن و آلومينيوم به وسيله پالسهاي ليزر پرتوان با طول پالس بلندو شدت هاي مختلف بررسي مي شود. به منظور كنترل و افزايش گسيل خطي اشعه ايكس، از اهداف فلزي نانو و ساختار به جاي اهداف معمولي استفاده شد. شبيه سازي و محاسبات نشان مي دهد در كليه موارد مورد بررسي، ميزان گسيل اشعه ايكس به ازا يك چگالي مناسب براي لايه نانويي، افزايش قابل ملاحظه اي خواهد داشت. كلمات كليدي:

شماره مدرك كنفرانس

1845181

سال انتشار

1388

از صفحه

1

تا صفحه

4

سال انتشار

0