رشد نانو ساختارھاي كربني با استفاده از الكل با به كار بردن روش HFCVD

در اين كار تاثير نوع الكل در رشد نانوساختارھاي كربني رشد يافته بر روي زيرلايه سيليكوني -n، بررسي شده است .به اين منظور از متانول،اتانول HFCVD لايه نشاني شده با طلا با روش به عنوان گاز رقيق كننده و حامل استفاده H بوتانول به عنوان منبع كربني و گاز 2 -n پروپانول و شده است.سطح و مورفولوژي ,سطح كاتاليزور طلاي نشانده شده بر روي زير لايه سيليكون و طيف FE-SEM مورد بررسي و مطالعه قرار گرفته است و از AFM با استفاده از تكنيك سنجي رامان براي شناسايي ساختارھاي رشد يافته استفاده شده است.بررسيھا و آزمايشھا انجام يافته نشان ميدھد كه استفاده از متانول به عنوان منبع كربني منجر به رشد بر روي زير CNTs بوتانول) منجر به رشد -n پروپانول و -n، و استفاده از ساير الكلھا (اتانول DLC لايه شده است.با مطالعه و بررسي نتايج حاصل از آزمايشھا مشخص شده است كه اتانول پروپانول مناسب ميباشد. -n كربني ميباشد و بعد از آن CNTs بھترين منبع كربني جھت رشد