جوانه ‌زني و رشد الكتروشيميايي مس روي پايه موليبدن: اثر pH، پتانسيل و روش تميز كردن سطح

در اين تحقيق با استفاده از تكنيك هاي ولتامتري سيكلي و كرونوآمپرومتري مراحل اوليه رسوب دهي الكتروشيميايي مس روي فلز پايه موليبدن در محلول اندكي اسيدي مطالعه شده است. رسوب دهي الكتروشيميايي مس بر روي فلز پايه موليبدن از ديدگاه ترموديناميكي، سينتيكي، مكانيزم جوانه زني و رشد مورد ارزيابي قرار گرفت. با استفاده از ولتامتري سيكلي تعيين شد كه رسوب دهي الكتروشيميايي مس روي فلز پايه موليبدن يك فرايند برگشت ناپذير و تحت كنترل نفوذ مي باشد. تحت كنترل نفوذ بودن رسوب دهي الكتروشيميايي مس بر روي فلز پايه موليبدن توسط رابطه ي Randles-Sevcik تاييد گرديد. ضريب نفوذ مس در 3 =pH و 4 با استفاده از رابطه ي Randles-Sevcik و رابطه ي Cottrel محاسبه شدند كه در تطابق خوبي با هم بودند. با استفاده از مدل SharifkerHills منحني هاي جريان گذرا مس تحليل شدند. مكانيزم جوانه زني مس به عنوان تابعي از pH و پتانسيل مورد بررسي قرار گرفتند. در 3=pH و 4 مكانيزم جوانه زني و رشد مس روي نمونه سمباده شده به‌صورت تركيبي از آني و پيشرونده سه بعدي بود درحالي‌كه با افزايش pH و پتانسيل مكانيزم جوانه زني به سمت مكانيزم آني سه بعدي متمايل شد. غوطه‌ور كردن فلز پايه در محلول حاوي آمونياك و سپس اسيد كلريدريك بعد از سمباده زدن تاثيري بر روي مكانيزم جوانه زني و رشد نداشت. اچ كردن فلز پايه در محلول حاوي اسيد سولفوريك، اسيد نيتريك و اسيد كلريدريك بعد از سمباده زدن مكانيزم جوانه زني را از حالت آني سه بعدي به پيشرونده سه بعدي تغيير داد.