بررسي تاثير غلظت فسفر بر عملكرد سلول‌هاي خورشيدي حالت جامد پايه سيليكون متخلخل

در پژوهش حاضر، تاثير غلظت فسفر در محلول آلاينده بر عملكرد سلول هاي خورشيدي حالت جامد پايه سيليكون متخلخل مورد بررسي قرار گرفت. براي اين منظور بسترهاي سيليكوني به روش حكاكي شيميايي توسط نقره و با استفاده از محلول حكاكي آبي حاوي هيدروفلوريك اسيد و هيدروژن پروكسيد به نسبت هاي 0.82، 0.87 و 0.89 حكاكي شدند و خصوصيات نوري و سطحي آن ها به ترتيب توسط بازتاب سنجي و ميكروسكوپ هاي نوري و الكتروني روبشي گسيل ميداني مورد ارزيابي قرار گرفتند. در ادامه، سلول هاي خورشيدي با نفوذ فسفر در سه غلظت 3%، 9% و 15% در محلول آلاينده به درون بستر سيليكوني با تخلخل بهينه ساخته شدند. نتايج مشخص كرد كه سيليكون حكاكي شده با هيدروفلوريك اسيد و هيدروژن پروكسيد به نسبت 0.82 به دليل برخورداري از تخلخل هاي يكنواخت و با اندازه نزديك به ذرات  نقره داراي بازتابي در حدود 11% شد كه بهترين بستر براي جذب حداكثر ميزان نور برخوردي به شمار مي رود. بررسي عملكرد فوتوولتاييك سلول هاي ساخته شده بيانگر افزايش 98% جريان مدار كوتاه سلول آلايش يافته با غلظت 3% از فسفر است كه بازده كل سلول را به ميزان 10.6% افزايش داده است.