بررسي تجربي و نظري ويژگي‌هاي لايه‌هاي نازك اكسيد روي آلاييده شده با آلومينيم

An experimental and theoretical study on the physical properties of Al doped ZnO thin films

در اين پژوهش، لايه­ هاي نازك اكسيد روي با ناخالصي آلومينيم به روش افشانه گرمايي بر زيرلايه ­هاي شيشه ­اي نشانده شدند. نخست ساختار بلوري لايه­ ها با استفاده از پراش پرتو ايكس بررسي شد و سپس ويژگي­ هاي نوري آنها با استفاده از طيف عبوري بررسي گرديد. افزون بر اين، به منظور شناخت اثر ناخالصي آلومينيم بر ساختار الكتروني اكسيد روي، ساختار نواري هر دو ماده اكسيد روي و اكسيد روي آلاييده با آلومينيم با استفاده از محاسبات ابتدا به ساكن در چارچوب نظريه تابعي چگالي محاسبه شد. نتايج بررسي­ ها نشانگر آن است كه لايه­ ها باساختار شش گوشي ورتسايت به صورت بسبلور رشد كرده ­اند و اندازه بلورك ­ها در راستاي (002) برابر با 25/41 نانومتر و ميزان گذردهي در ناحيه مرئي بيش از 80 درصد است. همچنين انتقال انرژي فرمي به داخل نوار رسانش نشان مي­دهد كه آلومينيم در افزايش رسانش الكتريكي و تغيير آستانه گذردهي نوري لايه­ ها بسيار موثر است.

In this research, ZnO thin films with Al impurity as dopant were coated onto cleaned glass substrates by the spray pyrolysis technique. Crystal structure of the thin films was studied via XRD, and UV-vis spectroscopy was carried out to investigate their optical properties. Finally, in order to study the effect of Al impurity in ZnO thin films, the band structures of both pure and doped systems were calculated and compared using ab initio calculations in the frame work of DFT. The results show that polycrystalline thin films with hexagonal wurtzite structure have been grown, and the crystal size of the (002) ones is 25.41 nm. Moreover, the transmission in the visible region is more than 80%. Furthermore, Fermi energy is shifted into the conduction band in the case of Al doped ZnO which leads to increasing the electrical conductivity and changing the optical transmission threshold.